我国在洁净工程的发展状况

2016-06-23 07:52:16 编辑：admin 出处：科瓦特

我国的洁净技术和设备与国外国家相比相距是明显的，我国1965年才开始生产的HEPA，经国外晚了

十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在上先

进国家已成为成熟技术，我国则刚刚起步。

中国洁净室

世界各工业国家为适应超净技术的发展，对大量使用的高效过滤器的研究从未中断，几年来一起在开

发不同结构不同性能的新产品，美国自1979年开始研制0.1微米ULPA过滤器，1984攫美国AAF企业开始生产

0.1微米无隔板ULPA过滤器，目前，为0.1微米ULPA过滤器在美国 AAF企业、FLANDERS企业和CAMBRIDG

企业已形成商品生产。日本也已成为世界上生产0.1微米ULPA过渡器厂家最多的国家，品种繁多，产品系列

化，尤其是低压损型0.1微米ULPA过滤器的开发成功解决了初阻力大的技术难题。市场对高效空气过渡

器的需要量很大，且每年均有增长，目前日本每年销售超过100万台，按每台平均价格200美金计算，销售

额达2亿美金。我国高效空气过渡器的需要量已接近每年10万台，占市场的2%~4%，但至今还没有

0.1微米ULPA过渡器生产，用于越大规模集成电路生产洁净厂房及各种高科技领域洁净厂房的0.1微米

ULPA过滤器目前还依赖进口。

在洁净室建设规模的技术水平上，我国与国家差距更大。日本清水建设企业一家，1982年到1987年

期间承建的洁净室面积达81.8万平方米，而这期间，我国一年承建的洁净室总面积还不到10万平米，但八五

期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计

已达188.5万平方米。在洁净室工程技术水平上，80年代末期，国外已大量建成0.1微米级的超净室，1987年

日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则建成了四个1000平方米控制0.1微米尘埃的千级

厂房，换气次数高达300次/分。

洁净工程

美国在台湾的TSMCS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。我国使用的0.1微米十级洁

净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0.1微米十级洁净室每平方米造价高达

1万美金以上。在大规模集成电路制造装备的投资中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更

新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。美国

ASYAT企业、德国MW企业发展的使用隔离技术的亚微米环境系统设备和技术在近几年中得到广泛采用。

该项最新的洁净技在100级洁净度的洁净厂房中，采用工艺设备局部使用隔离技术的微环境，把投资比例

压缩到高级别的微环境，消除了操编辑与工艺设备运行的二次污染源生产对集成电路成品率和可靠性的影

响作用。

洁净技术和装备的市场十分巨大，日本到80年代末、90年代初洁净技术和设备的销售额已突破35亿

美金。美国和西欧等国家洁净设备的基础部件的销售额忆达73亿美金。据中国电子专用设备工业协会

统计，我国主要八家最大的净化设备厂的销售额在1990年为8217万无，还不足1亿，1993年达到14495万元，

占市场销售额的0.34%。但随着我国高新技术的迅速发展和微电子工业、光纤工业、液晶显示工业及光

电器件工业、生物工程、医药工业的发展，我国潜在的巨大的洁净技术产品市场，以每年40%~50%的增长

速度在增加。