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电子洁净室净化工程应用走向成熟化

2016-06-01 04:02:35   编辑:admin  出处:科瓦特

  电子行业,特别迅速发展的亚微米工艺对生产场所空气洁净度要求特别高,在对洁净度的提出更高要求方面,电子工业是促进前进动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定因素,技术越进步,尺寸就越小,如果落在集成电路上的粒子大于最小尺寸的1%--2%,就会使集成电路成为废品,金属粒子、离子、细菌都是生产废品的元凶。空气洁净度的好坏直接影响电路生产的成品率。

  同时,对微电子产品的功能要求越高,投资规模越来越大,就对质量水平的要求越来越严格,电子工业成为世界上越来越大的工业部门,预计再近年,电子激光最小的光刻尺寸可达到0.5微米。微电路存储量可达64千兆,世界上大部分在建的洁净室都用于微电子工业,每年建造和使用费用可达百万美金。


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